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拥有先进的半导体制造设备和不断发展的机床精度的规模总是要求客户提高性能。 我们根据半导体路线图、市场趋势和客户需求，制定超精密规模路线图，并致力于研发。 开发新设备和皮科米分辨率刻度时，还必须开发一个系统来评估它。
此外，设计和开发方法也必须不断发展。 物理、化学、电气、机械和软件工程师正在共同努力，提高磁阶和激光秤的性能。 我们的目标是保持我们的基本技术能力，并成为一个团队，能够快速、灵活地开发和商业化满足客户需求的产品。 此外，我们开发具有可靠可靠性的产品，不会辜负客户的信任。
机械设计
使用模态分析进行
变形模拟
LSI布线的信号延迟验证
新的磁体刻度源自磁性应用技术，是磁刻度上分辨率为 0.005 μm 的精密测量刻度。 光学刻度检测明暗晶格透射率的变化，而磁刻度通过磁头检测磁性介质内部记录的磁晶格磁通量的变化。 为了在磁尺度上获得高分辨率，良好的磁性介质和低应变头至关重要。
在规模方面，我们开发了高密度磁性介质，具有耐环境性，可在各种环境下使用，包括机床和工业机械。 磁头使用 HDD 中进化的磁阻效应元件，通过*的模式设计将磁信号输出为高灵敏度、极低失真的信号。 此外，在磁刻度上成功实现了M码磁信号检测的化。 头部的信号通过专有信号校正电路消除影响精度的 D C 信号分量以及正弦和余弦信号之间的相位差和振幅不平衡，并与 M 代码一起转换为高分辨率、高精度的位置。
新的磁阶适用于各种环境（如冷凝和油）的机床，这是光学读取明暗晶格时无法实现的。 此外，磁垢是与铸铁具有相同线性膨胀系数的刻度，铸铁是机器的结构。 因此，即使在发生温度变化的环境中，也能在与机器相同的温度特性下进行拉伸，从而实现稳定、高精度的加工。
磁垢将进一步追求高精度和耐环境性能。
磁刻度记录图像
长精度测量设备
Magnescale原SONY工业测量产品变更通知
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